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HoFCVD一步法：推動低溫多晶硅制備技術升級，賦能高性能顯示產業
HoFCVD“一步法”在低溫多晶硅制備中體現出高結晶質量、工藝溫度低（<200℃）、優異電學性能等多重優勢，將在下一代顯示產業中扮演關鍵角色。 - 【會議預告】2026年HoFCVD薄膜裝備與應用技術大會暨第十二屆全球熱絲CVD大會（第一輪通知） 2026-01-26
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