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HoFCVD一步法：推動低溫多晶硅制備技術(shù)升級，賦能高性能顯示產(chǎn)業(yè)
HoFCVD“一步法”在低溫多晶硅制備中體現(xiàn)出高結(jié)晶質(zhì)量、工藝溫度低（<200℃）、優(yōu)異電學(xué)性能等多重優(yōu)勢，將在下一代顯示產(chǎn)業(yè)中扮演關(guān)鍵角色。 - 【會議預(yù)告】2026年HoFCVD薄膜裝備與應(yīng)用技術(shù)大會暨第十二屆全球熱絲CVD大會（第一輪通知） 2026-01-26
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